оборудование и расходные материалы для различных отраслей промышленностиДИАХРОМ
О компанииНовости и событияПродукцияЗаказАкции и спецпредложенияПартнерыКонтакты

Фоторезист Hori HD-200

Фоторезист HD-200 - это высококачественный сухой пленочный фоторезист водощелочного проявления прямого лазерного экспонирования, применяемый для получения рисунка схемы печатных плат или временной защиты поверхности.
Фоторезист HD-200 совместим с процессами гальванического меднения Cu, оловянирования Sn, припоя SnPb.
Применение: кислотное и щелочное травление наружных слоев, гальванометаллизация, тентинг.

Серия Толщина (мкм) Применение Свойства
HD-200 38 / 40 / 48 Прямое лазерное экспонирование (LDI)
Кислотное травление внешних слоев
Гальванометаллизация и щелочное травление внешних слоев
Тентинг
Высокая фоточувствительность
Отличные характеристики для тентинга
Высокие адгезия и разрешение


Технические характеристики:
Вид операции HD-240 HD-240F HD-250
Тестирование Устройство экспонирования Orbotech (paragou-8800hi)
Тестирование Шкала чувствительности Штоуфера 41ST
Тестирование Тестовый шаблон для разрешения LEWI-TEST-METRIC
Тестирование Тестовый шаблон для адгезии LEWI-TEST-METRIC
Экспонирование Энергия экспонирования (мДж/см2) 23 23 26
Экспонирование Чувствительность / 41ST 20+2 20+2 20+2
Разрешение Минимальный пробел (мкм) 35 40 45
Адгезия Минимальная ширина линии (мкм) 30 35 40
Ламинирование Максимальная глубина (мкм) 18+5 20+5 25+5
Проявка Время проявления (сек) 38+5 45+5 55+5
Снятие Время снятия (сек)
(3%NaOH, 50oC)
42+3 48+3 60+5
Снятие Размер частиц при снятии (мм) <50 <45 <35
Тентинг Тентинг (D мм) 7 8 9
Замечание: Полученные из лаборатории вышеприведенные цифры используются только для справочных целей.
Техническое описание и рекомендации по использованию


Возврат на предыдущую страницу

Наверх

© Диахром, 2001