Расходные материалы и оборудование

Сухие пленочные фоторезисты AQUA MER MA315/320, используемые в производстве печатных плат, разработаны путем объединения самых передовых современных технологий изготовления светочувствительных материалов и нанесения покрытий.
Фоторезисты AQUA MER MA315/320 - это высокоэффективные, полностью водорастворимые сухие пленочные фоторезисты, используемые в процессах производства внешних слоев печатных плат, в процессах гальванического покрытия, кислотного травления и тентинга. Они полностью проявляются в слабом щелочном растворе, таком как карбонат натрия (Na₂CO₃), при температуре 30+2^oC, а затем удаляются в низко концентрированном щелочном растворе, таком как гидроксид натрия (NaOH), гидроксид калия (KOH) или органические амины.
Фоторезисты AQUA MER MA315/320 - это высокоэффективные сухие пленочные фоторезисты, которые могут использоваться в процессах гальванизации, кислотного травления и тентинга.
Имеют отличные адгезию и разрешение, а также быструю скорость проявки и хорошее снятие после процесса травления.
Подходят как для обычных стандартных УФ-систем экспонирования (через шаблон), так и для систем прямого лазерного экспонирования фоторезиста (LDI).

Фоторезист MA315
Фоторезист MA320

Возврат на предыдущую страницу