Сухой пленочный фоторезист AQUA MER MA320
Сухой пленочный фоторезист AQUA MER MA320, используемый в производстве печатных плат,
разработан путем объединения самых передовых современных технологий изготовления светочувствительных материалов и нанесения
покрытий.
Фоторезист AQUA MER MA320 - это высокоэффективный, полностью водорастворимый сухой пленочный фоторезист, используемый
в процессах производства внешних слоев печатных плат, в процессах гальванического покрытия, кислотного травления и тентинга.
Он полностью проявляйтся в слабом щелочном растворе, таком как карбонат
натрия (Na2CO3), при температуре 30+2oC, а затем удаляется в низко концентрированном щелочном растворе,
таком как гидроксид натрия (NaOH), гидроксид калия (KOH) или органические амины.
Фоторезист AQUA MER MA320 - это высокоэффективный сухой пленочный фоторезист, который может использоваться
в процессах гальванизации, кислотного травления и тентинга.
Имеет отличные адгезию и разрешение, а также быструю скорость проявки и хорошее снятие после процесса травления.
Подходит как для обычных стандартных УФ-систем экспонирования (через шаблон), так и для систем прямого лазерного экспонирования
фоторезиста (LDI).
Толщина слоя фоторезиста MA320 AQUA MER составляет 50 мкм. Фоторезист находится как сэндвич между полиэфирной
пленкой (ПЭТ (PET)) и полиэтиленовой пленкой (ПЭНП (LDPE)).
Преимущества:
1. Отличное высоко прибыльное приобретение
2. Отличное отверстие - отличная покрывающая способность
3. После проявления боковая стенка - вертикальная
4. Во время проявления - меньше пены
5. Высокое разрешение, высокая адгезия
6. Быстрое снятие пленки в щелочном растворе
7. Отсутствие явления протекания при кислотном меднении или при покрытии никель-золотом
8. Великолепная ширина золотой линии после гальванического золочения
9. После гальванизации задняя стенка вертикальна
10. Меньше утечки химикатов
11. Хорошие характеристики при удалении пленки в щелочном растворе - удаляются даже мелкие частицы пленки
12. Разница цвета до и после экспонирования - все очевидно при легком осмотре фоторезиста
Характеристики:
Тип: ___________________________MA320
Толщина: _______________________50+2 мкм
Цвет до экспонирования: ___________зеленый
Цвет после экспонирования: ________темно-синий
Рекомендованное использование: ____металлизация, покрытие отверстий (тентинг), травление
Стандартная ширина:______________305 мм
Длина: _________________________152.4 м/рулон
Хранение:
Для достижения наиболее длительного срока годности и сохранения своих характеристик сухие пленочные
фоторезисты должны храниться в прохладной, сухой среде с контролируемой температурой от 5oC до 20oC ,
и относительной влажностью, поддерживаемой на уровне 50% + 10%.
Ламинирование:
Поверхность заготовки и прижимной валик должны быть чистыми, чтобы избежать появления крошечных 'точек' на пленке,
вызванных грязью, медным шлаком, шлаком от стекловолокна и пленки.
Ручной ламинатор
Температура прижимного валика: _________90~120oC
Скорость нанесения пленки: _____________1~3 м/мин
Давление пленки: _____________________35~50 psi
Температура заготовки: ________________40~60oC
Автоматический ламинатор
Температура прижимного валика: _________90~120oC
Скорость нанесения пленки: _____________1~3 м/мин
Давление пленки: _____________________35~50 psi
Температура поступающего листа: ________60-70oC
Температура заготовки: ________________75-85oC
Температура слоя: _____________________60-80oC
Давление на валике: ___________________3~5 кг/см2
Продолжительность давления: ___________1~4 сек
Экспонирование:
Энергия экспонирования: ___50-95 мДж/см2
Ступень: ________________6~8 (SST 21 step)
_______________________16~22 (SST 41 step)
Проявка:
Сухой пленочный фоторезист AQUA MER MA320 проявляется в растворах на основе карбоновой (угольной) кислоты.
Проявляющий раствор:
__карбонат натрия _________________0.85% (0.7%~1.0%)
__карбонат калия _________________.1.0% (0.8%~1.2%)
Температура: _____________________28~32oC
Точка проявления: _________________40%~60%
Давление: ________________________1.2~2.0 кг/см2
Форсунка: ________________________вентилятор высокого давления или конус
Вода для промывки: ________________жесткая вода (эквивалент 150-300 ppm)
Давление распыления при промывке: ___2.0 кг/см2 (1.2~2.5 кг/см2)
Температура промывки: _____________20~25oC (15~30oC)
Сушка: __________________________сушка горячим воздухом предпочтительнее
Время проявления: _________________83~100 секунд
Фоторезист AQUA MER MA320 обладает превосходной химической стойкостью и хорошо работает в кислотных резервуарах
для металлизации, включая резервуары с сульфатом меди, свинцом-оловом, ярким оловом, сульфаматом никеля, золотом,
а также и другие кислотные резервуары для металлизации.
Предварительная обработка перед металлизацией:
Эффективная предварительная обработка включает: удаление масла, микротравление и предварительную пропитку.
Микротравление и предварительная пропитка могут обеспечить 'свежую' медную поверхность
с небольшой коррозией
для последующих гальванических резервуаров.
Пример:
Кислотное обезжиривание: ________500oC, 5 минут
Промывка водой: _______________комнатная температура, 1 мин
Микротравление: _______________скорость микротравления не менее 10 микродюймов
Промывка водой: _______________комнатная температура, 1 мин
Кислотное выщелачивание: _______10% (V\V), 1 мин
Промывка водой: _______________комнатная температура
Металлизация: _________________контроль параметров на месте
Снятие фоторезиста:
Фоторезист AQUA MER MA320 может быть удален с использованием обычного способа отмачивания или снятием методом
передачи по линии. В качестве жидкости для снятия может использоваться 2,0 ~ 5,0% щелочной раствор (NaOH или KOH) или же
специальная жидкость для этих целей.
Раствор для снятия: ____________2-5% NaOH жидкий
Температура: _________________40~60oC
Давление: ___________________.1.0~3.0 кг/см2 (15~45 psi)
Ступень шкалы: _______________7 (SST 21 step)
Время: ______________________60~95 сек
Технический паспорт и инструкции по использованию
